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Sapphire HD4870 Toxic

La tecnologia Vapor-X che equipaggia questo modello permette ottime prestazioni e silenziosità. L'elevata velocità di rendering e le buone possibilità di overclock rendono questo prodotto ideale per gamer esigenti.

Tecnologie & Trend
Il modello in prova si contraddistingue per il suffisso "Toxic", che identifica le schede Sapphire Technology destinate a un'utenza particolarmente esigente, sia in termini di ergonomia d'uso, sia per quanto riguarda le prestazioni. Sapphire HD 4870 incorpora la GPU AMD ATI Radeon HD 4870, dotata di ben 800 Stream Processor integrati e al supporto per le DirectX 10.1. 
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Le frequenze di lavoro sono leggermente superiori rispetto ai modelli di riferimento, con un core clock di 780 MHz e memorie a 2 GHz. Il frame buffer a disposizione è di 512 MByte, sono stati utilizzati moduli SDRAM GDDR5, con un bus di comunicazione a 256 bit. A livello di specifiche, questo modello sfrutta il bus di comunicazione PCI Express 2.0, che consente di  raddoppiare l'ampiezza di banda rispetto allo standard precedente. Per velocizzare la riproduzione di filmati ad alta definizione, è stato incorporato il decoder UVD2 (Universal Video Decoder), che consente un miglioramento qualitativo durante la riproduzione di flussi HD, oltre alla riduzione del carico della CPU principale.

[tit:Camera di vapore]
Tra gli aspetti più innovativi di questo modello c'è sicuramente l'adozione della tecnologia Vapor-X, per il raffreddamento della GPU e delle memorie. Questo modello utilizza infatti un radiatore, che ad un primo sguardo risulta quasi del tutto identico ai tradizionali dissipatori in rame, ma invece incorpora il sistema Vapor Chamber.
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È dunque disponibile una "camera di vapore", che si caratterizza per le ottime prestazioni in termini di dissipazione del calore e non necessita di grossi radiatori. In questo caso sono installate anche apposite heatpipe per decentrare il calore più velocemente, oltre a una ventola tachimetrica che sospinge l'aria fredda verso il radiatore e ne abbassa la temperatura. Il principio di funzionamento alla base di questo sistema è legato alla disponibilità di una camera stagna contenente un liquido dedicato. La sostanza liquida muta il proprio stato a una determinata temperatura e permette una migliore distribuzione del calore e una maggiore efficienza durante il funzionamento.
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